হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড | এইচএফসিএল 4 পাউডার | সিএএস 13499-05-3 | কারখানার দাম

হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড | এইচএফসিএল 4 পাউডার | সিএএস 13499-05-3 | কারখানার দাম বৈশিষ্ট্যযুক্ত চিত্র
  • হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড | এইচএফসিএল 4 পাউডার | সিএএস 13499-05-3 | কারখানার দাম

সংক্ষিপ্ত বিবরণ:

হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইডের হাফনিয়াম অক্সাইডের পূর্বসূরী হিসাবে গুরুত্বপূর্ণ অ্যাপ্লিকেশন রয়েছে, জৈব সংশ্লেষণের অনুঘটক, পারমাণবিক অ্যাপ্লিকেশন এবং পাতলা ফিল্ম জমা দেওয়ার জন্য, বিভিন্ন প্রযুক্তিগত ক্ষেত্রে এর বহুমুখিতা এবং গুরুত্ব তুলে ধরে।

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com


পণ্য বিশদ

পণ্য ট্যাগ

পণ্যের বিবরণ

সংক্ষিপ্ত ভূমিকা

পণ্যের নাম: হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড
সিএএস নং: 13499-05-3
যৌগিক সূত্র: এইচএফসিএল 4
আণবিক ওজন: 320.3
চেহারা: সাদা পাউডার

স্পেসিফিকেশন

আইটেম স্পেসিফিকেশন
চেহারা সাদা পাউডার
এইচএফসিএল 4+জেডআরসিএল 4 ≥99.9%
Zr ≤200ppm
Fe ≤40ppm
Ti ≤20ppm
Si ≤40ppm
Mg ≤20ppm
Cr ≤20ppm
Ni ≤25ppm
U ≤5ppm
Al ≤60ppm

আবেদন

  1. হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড পূর্ববর্তী: হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড প্রাথমিকভাবে হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড (এইচএফও 2) উত্পাদন করার জন্য পূর্ববর্তী হিসাবে ব্যবহৃত হয়, এটি দুর্দান্ত ডাইলেট্রিক বৈশিষ্ট্যযুক্ত একটি উপাদান। এইচএফও 2 সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে ট্রানজিস্টর এবং ক্যাপাসিটারগুলির জন্য উচ্চ-কে ডাইলেট্রিক অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। হাফনিয়াম ডাই অক্সাইডের পাতলা ছায়াছবি গঠনের দক্ষতার কারণে উন্নত বৈদ্যুতিন ডিভাইস তৈরির ক্ষেত্রে এইচএফসিএল 4 অপরিহার্য।
  2. জৈব সংশ্লেষণ অনুঘটক: হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড বিভিন্ন জৈব সংশ্লেষণ প্রতিক্রিয়া, বিশেষত ওলেফিন পলিমারাইজেশনের জন্য অনুঘটক হিসাবে ব্যবহার করা যেতে পারে। এর লুইস অ্যাসিড বৈশিষ্ট্যগুলি সক্রিয় মধ্যস্থতাকারী গঠনে সহায়তা করে, যার ফলে রাসায়নিক বিক্রিয়াগুলির দক্ষতা উন্নত হয়। এই অ্যাপ্লিকেশনটি রাসায়নিক শিল্পে পলিমার এবং অন্যান্য জৈব যৌগগুলির উত্পাদনে মূল্যবান।
  3. পারমাণবিক আবেদন: এর উচ্চ নিউট্রন শোষণ ক্রস বিভাগের কারণে, হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড পারমাণবিক অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে বিশেষত পারমাণবিক চুল্লিগুলির নিয়ন্ত্রণ রডগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। হাফনিয়াম কার্যকরভাবে নিউট্রনগুলি শোষণ করতে পারে, সুতরাং এটি বিচ্ছেদ প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণের জন্য একটি উপযুক্ত উপাদান, যা পারমাণবিক বিদ্যুৎ উত্পাদনের সুরক্ষা এবং দক্ষতা উন্নত করতে সহায়তা করে।
  4. পাতলা ফিল্ম জমা: হাফনিয়াম টেট্রাক্লোরাইড রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) প্রক্রিয়াগুলিতে হাফনিয়াম-ভিত্তিক উপকরণগুলির পাতলা ছায়াছবি গঠনের জন্য ব্যবহৃত হয়। এই ফিল্মগুলি মাইক্রো ইলেক্ট্রনিক্স, অপটিক্স এবং প্রতিরক্ষামূলক আবরণ সহ বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে প্রয়োজনীয়। ইউনিফর্ম, উচ্চমানের চলচ্চিত্রগুলি জমা দেওয়ার ক্ষমতা উন্নত উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলিতে এইচএফসিএল 4 কে মূল্যবান করে তোলে।

আমাদের সুবিধা

বিরল-পৃথিবী-স্ক্যান্ডিয়াম-অক্সাইড-সহ-প্রাইস -2-এর সাথে

পরিষেবা আমরা সরবরাহ করতে পারি

1) আনুষ্ঠানিক চুক্তি স্বাক্ষর করা যেতে পারে

2) গোপনীয়তা চুক্তি স্বাক্ষর করা যেতে পারে

3) সাত দিনের ফেরতের গ্যারান্টি

আরও গুরুত্বপূর্ণ: আমরা কেবল পণ্যই নয়, প্রযুক্তি সমাধান পরিষেবা সরবরাহ করতে পারি!

FAQ

আপনি উত্পাদন বা বাণিজ্য?

আমরা প্রস্তুতকারক, আমাদের কারখানাটি শানডংয়ে অবস্থিত, তবে আমরা আপনার জন্য একটি স্টপ ক্রয় পরিষেবাও সরবরাহ করতে পারি!

অর্থ প্রদানের শর্তাদি

টি/টি (টেলিক্স ট্রান্সফার), ওয়েস্টার্ন ইউনিয়ন, মানিগ্রাম, বিটিসি (বিটকয়েন) ইত্যাদি

নেতৃত্ব সময়

≤25 কেজি: পেমেন্ট পাওয়ার পরে তিন কার্যদিবসের মধ্যে। ＞ 25 কেজি: এক সপ্তাহ

নমুনা

উপলভ্য, আমরা মানের মূল্যায়নের উদ্দেশ্যে ছোট বিনামূল্যে নমুনা সরবরাহ করতে পারি!

প্যাকেজ

1 কেজি প্রতি ব্যাগ এফপিআর নমুনা, 25 কেজি বা ড্রাম প্রতি 50 কেজি, বা আপনার প্রয়োজন হিসাবে।

স্টোরেজ

একটি শুকনো, শীতল এবং ভাল বায়ুচলাচল জায়গায় শক্তভাবে বন্ধ পাত্রে সংরক্ষণ করুন।

  • পূর্ববর্তী:
  • পরবর্তী:

    • সম্পর্কিত পণ্য